低溫恒溫循環(huán)器常應(yīng)用于對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等起到很大作用。
低溫恒溫循環(huán)器提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿(mǎn)足用高、低溫做反應(yīng)的恒溫儀器的需要。特別適用與化學(xué)反應(yīng)釜、發(fā)酵罐、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應(yīng)器等實(shí)驗(yàn)設(shè)備配套使用。*內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測(cè)樣品的各種容器，直接進(jìn)行高低溫試驗(yàn)或測(cè)試，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用。
低溫恒溫循環(huán)器可選配RS232或RS485通訊接口，實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)傳輸進(jìn)行遠(yuǎn)距離控制。
低溫恒溫循環(huán)器可以選配程序控溫系統(tǒng)，其特點(diǎn)為：
☆大屏幕液晶顯示，軟件程序控制，可編輯時(shí)間/溫度曲線。
☆多段可編溫度、時(shí)間程序，控制升溫、恒溫、降溫過(guò)程，且升溫速度、降溫速度可按用戶(hù)要求設(shè)置自動(dòng)控制。
☆編寫(xiě)儲(chǔ)存30個(gè)溫度/時(shí)間段，每個(gè)程序可設(shè)置0～9999分鐘運(yùn)行時(shí)間。
☆多種參數(shù)設(shè)定方式:方便快捷的輸入鍵、移位鍵和增鍵、減鍵，設(shè)定溫度/時(shí)間段及其他高級(jí)控制參數(shù)或直接調(diào)儲(chǔ)存的溫度/時(shí)間設(shè)定程序。
低溫恒溫循環(huán)器應(yīng)用領(lǐng)域：
☆生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器(合成器)等。
☆材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
☆醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機(jī)、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。
☆物化領(lǐng)域：激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。
產(chǎn)品型號(hào)：PXX-0550
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